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等離子體蝕刻及其在大規模集成電路制造中的應用(第2版)

等離子體蝕刻及其在大規模集成電路制造中的應用(第2版)

作者:張海洋 等
出版社:清華大學出版社出版時間:2023-01-01
開本: 其他 頁數: 436
本類榜單:工業技術銷量榜
中 圖 價:¥111.8(7.5折) 定價  ¥149.0 登錄后可看到會員價
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等離子體蝕刻及其在大規模集成電路制造中的應用(第2版) 版權信息

  • ISBN:9787302614395
  • 條形碼:9787302614395 ; 978-7-302-61439-5
  • 裝幀:一般膠版紙
  • 冊數:暫無
  • 重量:暫無
  • 所屬分類:>

等離子體蝕刻及其在大規模集成電路制造中的應用(第2版) 本書特色

張海洋等作者有著深厚的學術根基以及豐富的產業經驗,其帶領的團隊是多年來在頂級半導體工廠一線工作的科研人員,掌握了業界領先的制造工藝。他們處理實際問題的經驗以及從產業出發的獨特技術視角,將給讀者帶來啟發和幫助。本書理論與實際相結合,緊跟國際技術前沿,填補國內外相關圖書空白。 “十三五”國家重點圖書出版規劃,作者團隊在**半導體工廠工作多年,掌握業界領先的制造工藝

等離子體蝕刻及其在大規模集成電路制造中的應用(第2版) 內容簡介

本書共10章,基于公開文獻全方位地介紹了低溫等離子體蝕刻技術在半導體產業中的應用及潛在發展方向。以低溫等離子體蝕刻技術發展史開篇,對傳統及已報道的優選等離子體蝕刻技術的基本原理做相應介紹,隨后是占據了本書近半篇幅的邏輯和存儲器產品中等離子體蝕刻工藝的深度解讀。此外,還詳述了邏輯產品可靠性及良率與蝕刻工藝的內在聯系,聚焦了特殊氣體及特殊材料在等離子體蝕刻方面的潛在應用。*后是優選過程控制技術在等離子體蝕刻應用方面的重要性及展望,以及虛擬制造在集成電路發展中的應用。 本書可以作為從事等離子體蝕刻工藝研究和應用的研究生和工程技術人員的參考書籍。

等離子體蝕刻及其在大規模集成電路制造中的應用(第2版) 目錄

第1章低溫等離子體蝕刻技術發展史 1.1絢麗多彩的等離子體 1.2低溫等離子體的應用領域 1.3低溫等離子體蝕刻技術混沌之初 1.4低溫等離子體蝕刻技術世紀初的三演義 1.5三維邏輯和存儲器時代低溫等離子體蝕刻技術的變遷 1.6華人在低溫等離子體蝕刻機臺發展中的 貢獻 1.7未來低溫等離子體蝕刻技術展望 參考文獻 第2章低溫等離子體蝕刻簡介 2.1等離子體的基本概念 2.2低溫等離子體蝕刻基本概念 2.3等離子體蝕刻機臺簡介 2.3.1電容耦合等離子體機臺 2.3.2電感耦合等離子體機臺 2.3.3電子回旋共振等離子體機臺 2.3.4遠距等離子體蝕刻機臺 2.3.5等離子體邊緣蝕刻機臺 2.4等離子體先進蝕刻技術簡介 2.4.1等離子體脈沖蝕刻技術 2.4.2原子層蝕刻技術 2.4.3中性粒子束蝕刻技術 2.4.4帶狀束方向性蝕刻技術 2.4.5氣體團簇離子束蝕刻技術 參考文獻 第3章等離子體蝕刻在邏輯集成電路制造中的應用 3.1邏輯集成電路的發展 3.2淺溝槽隔離蝕刻 3.2.1淺溝槽隔離的背景和概況 3.2.2淺溝槽隔離蝕刻的發展 3.2.3膜層結構對淺溝槽隔離蝕刻的影響 3.2.4淺溝槽隔離蝕刻參數影響 3.2.5淺溝槽隔離蝕刻的重要物理參數及對器件性能的影響 3.2.6鰭式場效應晶體管中鰭(Fin)的自對準雙圖形的蝕刻 …… 第4章 等離子體蝕刻在存儲器集成電路制造中的應用 第5章 等離子體蝕刻工藝中的經典缺陷介紹 第6章 特殊氣體及低溫工藝在等離子蝕刻中的應用 第7章 等離子蝕刻對邏輯集成電路良率及可靠性的影響 第8章 等離子體蝕刻在新材料蝕刻中的展望 第9章 現金蝕刻過程控制及其在集成電路制造中的應用 第10章 虛擬制造在集成電路發展中的應用 參考文獻
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等離子體蝕刻及其在大規模集成電路制造中的應用(第2版) 作者簡介

張海洋,休斯敦大學化工系博士?,F任中芯國際集成電路制造(上海)有限公司技術研發中心蝕刻部門主管,教授級高級工程師,享受國務院政府特殊津貼。專注于先進集成電路制造中成套等離子體蝕刻工藝研發以及國產蝕刻機臺在高端邏輯制程中的驗證。入選國家萬人計劃領軍人才、科技部中青年科技創新領軍人才、上海市先進技術帶頭人計劃。持有半導體制造領域國際專利八十余項,指導發表國際會議文章60篇。

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