章真空技術基礎
節真空的基本知識
一、表示真空程度的單位
二、真空區域的劃分
三、固體對氣體的吸附及氣體的脫陽
第二節真空的獲得
一、旋片式機械真空泵
二、復合分子泵
三、低溫泵
第三節真空的測量
一、電阻真空計
二、熱偶真空計
三、電離真空計
參考文獻
第二章薄膜制備的化學方法
節熱氧化生長
第二節化學氣相沉積
一、一般化學氣相沉積反應
二、化學氣相沉積制備薄膜的傳統方法
三、激光化學氣相沉積
四、光化學氣相沉積
五、等離子體增強化學氣相沉積
第三節電鍍
第四節化學鍍
第五節陽極反應沉積
第六節LB技術
參考文獻
第三章薄膜制備的物理方法
節真空蒸發
一、真空蒸發沉積的物理原理
二、真空蒸發技術
一、濺射的基本原理
二、濺射鍍膜的特點
三、濺射參數
四、濺射裝置
第三節離子束和離子助
一、離子鍍
二、陰極電弧等離子體沉積
三、熱空陰極槍蒸發
四、離子轟擊共沉積
五、非平衡磁控離子助沉積
六、離子束沉積
第四節外延生長
一、分子束外延(MBE)
二、液相外延生長(LPE)
三、熱壁外延生長(HWE)
四、有機金屬化學氣相沉積(MOCVD)
參考文獻
第四章薄膜的形成與生長
節形核
一、凝聚過程
二、Langmuir-Frenkel凝聚理論
三、成核理論
四、實驗結果
第二節生長過程
一、一般描述
二、類液體合并
三、沉積參數的影響
第三節薄膜的生長模式
第四節遠離平衡態薄膜生長
一、粗糙表面的結構和生長
二、簡單模型
三、薄膜生長模型的實驗研究
參考文獻
第五章薄膜表征
節薄膜厚度控制及測量
一、沉積率和厚度監測儀
二、膜厚度測量
第二節組分表征
一、盧瑟福背散射(RBS)
二、二次離子質譜儀(SIMS)
三、X射線光電子能譜(XPS)
四、俄歇電子能譜
五、電鏡中的顯微分析
第三節薄膜的結構表征
一、衍射參數
二、熱振動與Debye-Waller因子
三、低能電子衍射(LEED)
四、掠入射角X射線衍射(GIXS)
五、透射電子顯微鏡
第四節原子化學鍵合表征
一、能量損失譜(EELS)
二、擴展X射線
三、振動光譜紅外吸收光譜和拉曼光譜
第五節薄膜應力表征
參考文獻
第六章薄膜材料
節超硬薄膜材料
一、超硬材料
二、金剛石薄膜
三、類金剛石薄膜材料
四、CN薄膜材料
第二節智能薄膜材料
一、形狀記憶合金薄膜材料
二、NiTi形狀記憶合金薄膜的制備和表征
三、形狀記憶合金及薄膜的應用
第三節納米薄膜材料
一、納米多層膜涂層
二、納米復合硬質涂層
三、應用及展望
第四節石墨片二維薄膜材料
一、石墨片的實驗制備
二、石墨片的性質
三、展望
第五節磁性氮化鐵薄膜材料
一、氮化鐵薄膜材料的相結構
二、氮化鐵薄膜材料的制備與表征
第六節巨磁阻錳氧化物薄膜材料
一、磁阻的定義
二、鈣鈦礦錳氧化物薄膜中的CMR效應及機制研究
三、錳氧化物薄膜制備工藝及表征手段
四、巨磁電阻薄膜材料的應用現狀
參考文獻